磁环派瑞林镀膜oem值得信赖「菱威纳米」

派拉纶（Parylene）涂层工艺是使用化学气相沉积（CVD）工艺在真空下沉积的。派拉纶（Parylene）的（CVD）工艺分为三个步骤（升华，热解，沉积）。首先，将二聚体（具有两个重复单元的前体）升华。下一步，在高于＞ 500°C的温度下通过热解将二聚体裂解为两种单体。然后，单体在基材表面（以及腔室表面）上聚合，形成线性聚合物链。后一步在室温下进行，得到派拉纶（Parylene）保形涂层。通过的真空镀膜机，进行的镀膜加工生产。

派瑞林（parylene）材料本身的阻挡特性远优于其它高分子涂层，作为一种阻挡层可有效地防止各种阴阳离子的扩散迁移，从而可靠地保护产品；派瑞林（Parylene）涂层工艺有效阻止了离子在涂层和产品基板界面的扩散，大大减少了常见的涂层内腐蚀。

派瑞林（parylene）材料作为涂层，派瑞林（parylene）超薄、无孔隙、均匀、同形性好、耐腐蚀、与******及血液相容等一系列优点,使其在生物***领域应用广泛, Parylene不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，可有效防止外界的***、水分和体液的侵蚀,同时增加了器件表面的干润滑性和绝绿性能。

       目前使用的Parylene主要有Parylene N，Parylene C和Parylene D三种，其共同点是高度惰性与高纯度，而每一种型号又有各自不同特点：Parylene N 具有很高的击穿强度，同时具有与频率无关的低介电常数；Parylene C提供了的电气特性和物理特性的组合，包括潮热环境和腐蚀性气体环境下的低渗透率；Parylene D 通过高温下优良的物理和电性能改善了热稳定性。Parylene HT是具备上述三种材料优点的一种组合材料。下面主要以 Parylene N和 Parylene C为例，介绍 Parylene的主要特性。